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產(chǎn)品中心

我的位置：首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體烘烤設(shè)備  >  
  • 充氮厭氧烘箱，450度厭氧固化爐 工業(yè)烘箱
    充氮厭氧烘箱，450度厭氧固化爐應(yīng)用于精密電子元件、聚酰亞胺層（PI）固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、MEMS制作、工藝COB封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
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    2025-09-16
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  • 無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧高溫烘箱 工業(yè)烘箱
    無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧高溫烘箱應(yīng)用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、COB封裝、IC封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、石英玻璃、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求.
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  • 硅片清洗設(shè)備，硅片全自動(dòng)清洗機(jī)
    硅片清洗設(shè)備，硅片全自動(dòng)清洗機(jī)應(yīng)用于集成電路，MEMS器件，微波器件，先進(jìn)封裝等工藝。去膠清洗設(shè)備，顯影清洗設(shè)備，酸堿刻蝕機(jī)。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，外延片清洗（砷化鎵，氮化鎵，碳化硅，鈮酸鋰等
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  • 刻蝕機(jī)，半導(dǎo)體刻蝕臺(tái)
    刻蝕機(jī)，半導(dǎo)體刻蝕臺(tái)用于半導(dǎo)體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設(shè)備。
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  • 馬弗爐，1200度高溫爐
    馬弗爐，1200度高溫爐應(yīng)用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。
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